美國芯片也不愿用昂貴的先進(jìn)工藝,ASML光刻機(jī)高光時(shí)刻正在過去
據(jù)悉當(dāng)下發(fā)展勢頭正猛的美國芯片企業(yè)AMD的新一代Zen4架構(gòu)芯片將采用臺積電的5nm工藝生產(chǎn),不會爭奪更先進(jìn)的3nm工藝,為了提升性能將以chiplet封裝技術(shù)將它自家的CPU和GPU封裝在一起,提升芯片性能。
chiplet封裝技術(shù)由Intel、AMD、臺積電等共同提出,不過推動該項(xiàng)技術(shù)發(fā)展的卻是AMD,原因在于如今日子好過許多的AMD在資金實(shí)力方面依然遠(yuǎn)不如Intel,AMD的營收、利潤都只有Intel的幾分之一。
在資金實(shí)力落后的情況下,AMD只能另想它法提升芯片性能,由此chiplet封裝技術(shù)就進(jìn)入了它的目光之中。chiplet封裝技術(shù)通過將多種芯片封裝在一起,實(shí)現(xiàn)高密度互聯(lián),從而提升整體性能,這與AMD的追求相合。
Intel也參與推動了chiplet技術(shù)的發(fā)展,不過它足夠有錢,因此它與蘋果共同包圓了臺積電今年下半年量產(chǎn)的3nm工藝,其實(shí)也是Intel試圖以資金優(yōu)勢搶奪臺積電的先進(jìn)工藝產(chǎn)能,避免AMD進(jìn)一步利用臺積電的先進(jìn)工藝提升性能挑戰(zhàn)Intel。
AMD自從2016年發(fā)布Zen架構(gòu)以來,處理器架構(gòu)性能實(shí)現(xiàn)了對Intel的反超,再加上Intel自從2014年量產(chǎn)14nm工藝之后在先進(jìn)工藝開發(fā)方面陷入停滯,臺積電卻延續(xù)了每1-2年升級一次工藝制程的腳步,AMD的芯片就由臺積電代工,如此在核心架構(gòu)和先進(jìn)工藝方面都超越Intel的情況下,AMD在桌面處理器市場已反超Intel。
然而如今AMD沒有計(jì)劃采用更先進(jìn)的3nm工藝,說明先進(jìn)工藝制程的價(jià)格實(shí)在太高了,高到連美國芯片企業(yè)都難以承受,業(yè)界認(rèn)為當(dāng)下成本昂貴的3nm工藝也就蘋果、Intel這些財(cái)大氣粗的芯片企業(yè)才能承受。
3nm工藝的價(jià)格已經(jīng)足夠昂貴了,未來的2nm、1nm將會更貴,而造成先進(jìn)工藝制程過于昂貴的原因之一就在于光刻機(jī)等設(shè)備太貴。ASML第一代EUV光刻機(jī)可以發(fā)展到3nm工藝,而2nm乃至更先進(jìn)的工藝就得用ASML第二代EUV光刻機(jī)。
ASML第一代EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1.2億美元,第二代EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)定價(jià)達(dá)到4億美元,提高了兩倍多。由于第二代光刻機(jī)的價(jià)格太高,以及先進(jìn)工藝研發(fā)難度太大,臺積電曾表示2nm工藝將延遲到2025年量產(chǎn),工藝研發(fā)進(jìn)度明顯比此前的先進(jìn)工藝制程慢,如今AMD也無法承受昂貴的先進(jìn)工藝制程價(jià)格,只會讓臺積電等對于研發(fā)先進(jìn)工藝制程更加猶豫。
第二代EUV光刻機(jī)的客戶也就只剩下Intel、臺積電、三星等有限幾家芯片制造企業(yè),在客戶對先進(jìn)工藝制程需求不足的情況下,臺積電這些芯片代工企業(yè)研發(fā)先進(jìn)工藝制程的腳步放緩,對第二代EUV光刻機(jī)的采購也會減少,ASML這家只有光刻機(jī)產(chǎn)品的企業(yè)將面臨發(fā)展困難。
事實(shí)上今年一季度ASML公布的業(yè)績就顯示營收下滑19%、凈利潤下滑超過五成,說明芯片制造企業(yè)在完成3nm工藝制程的準(zhǔn)備后已顯著放緩采購光刻機(jī),再加上如今的市場影響,ASML的日子自然很難再如此前那么風(fēng)光。
原文標(biāo)題 : 美國芯片也不愿用昂貴的先進(jìn)工藝,ASML光刻機(jī)高光時(shí)刻正在過去
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